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Nanoimprint Lithographie

UV-Nanoimprint ist eine junge Lithographietechnologie zur Fabrikation nanoskaliger Strukturen im Bereich der Nanoelektronik, Photonik und Biotechnologie. Sie konkurriert mit DUVL oder EUVL, ermöglicht jedoch eine höhere Auflösung bei lediglich einem Bruchteil der Kosten.

Die grundlegende Idee ist die Replikation von Strukturen, welche in ein Template (Stempel) geätzt wurden, durch das Eindrücken dieses Templates in einen UV-aushärtbaren Resist mit geringer Viskosität. Nach dem Auffüllen des Templates mit dem Lack wird mittels UV-Licht die Lackschicht ausgehärtet. Im letzten Schritt wird das Template entfernt und es verbleibt eine dreidimensionale Replikation der Strukturen. Durch weiteres anisotropisches Ätzen können die Nanostrukturen dann in ein Substrat übertragen werden.

Vorteile der Nanoimprint-Lithographie

  • Nanolithographie mit Auflösungen unter 10 nm
  • Limitierung der Auflösung nur durch das Template
  • Geringe Betriebskosten
  • Herstellung dreidimensionaler Strukturen und damit Möglichkeit zur Reduzierung der Herstellungskosten 
  • Durchführung bei Raumtemperatur und geringer Imprintkraft
  • Justage mit einer Genauigkeit bis zu 20 nm
  • Imprint mit reduziertem Umgebungsluftdruck für Reduktion der Fehlerwahrscheinlichkeiten
  • Materialbasis (AMONIL) mit integrierten Anti-Haft-Eigenschaften

Seit 1998 beschäftigt sich die AMO, deren Technologiebasis vielfältige spezifische Vorteile aufweist, aktiv mit der Prozess- und Geräteentwicklung. Im Rahmen unserer Nanoimprint Foundry Services bieten wir Ihnen Prozessentwicklungen unter Verwendung der UV-Nanoimprint Technologie für spezifische Anforderungen im Bereich Elektronik, Photonik oder Biotechnologie.

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